한-네 아카데미는 양국의 반도체 석·박사 과정 학생 등 약 60여명이 ASML, IMEC, NXP 등 글로벌 첨단반도체 기업 현장에서 7개 기관 약 20여명의 글로벌 전문가들과 함께 진행하는 기업 연계형 교육과정이다.
특히 초미세 패턴 제작을 위한 극자외선 노광기술과 공정개발, 원자층 증착 기술개발, 웨이퍼 표면 특성 제어 외 IMEC에서 진행되는 칩 제조 공정 등을 ASML, IMEC 개발자들의 특강과 토론 등을 통해 교육한다.
이를 통해 국내 인재들이 글로벌 기업의 최신 기술개발 현황 및 개발 전략 등 국내에서 경험하기 힘든 지식과 경험을 습득할 수 있을 것으로 기대된다.
본 과정에는 지난해 반도체 고급인재 양성을 위해 지정된 반도체특성화대학원 석·박사과정 학생이 참여했으며 이번 현장형 교육의 실효성 제고를 위해 극자외선·플라즈마 등 미세패터닝 공정기술에 대해 SK하이닉스·소부장 기업 전문가들을 초빙해 사전 교육을 실시했다.
또한 금년 상반기 중 반도체특성화대학원의 교육프로그램에 동 교육과정과 연계한 공정·소재·장비 교육 등을 개설해 특성화대학원 교육과정을 강화할 예정이며 반도체특성화대학원간의 상호 교류 및 교육 시스템 연계도 추진할 계획이다.
이용필 첨단산업정책관은 “반도체 기술 초격차의 관건은 우수 인재에 달려 있다”고 언급하며 “재직자를 대상으로 한-네 아카데미도 상반기 중 추진할 계획이며 한-네 아카데미를 매년 개최해 향후 5년간 양국 총 500명의 고급인재 양성과 함께 첨단반도체 연구개발 협력 등을 적극적으로 추진하겠다”고 밝혔다.